化学沉积膜电阻器（chemically deposited film resistor）

    化学沉积膜电阻器是用单纯的化学反应在基体上沉积一层电阻膜而制成（如镍—磷合金膜电阻器）。它的工艺特点是将基体经过敏化、活化处理后，再进行化学沉积制成电阻膜，膜电阻为0.01欧/方~1兆欧/方。这种电阻器的优点是生产效率高、设备简单，可以沉积任何形状的基体。但重复性差，薄膜易受潮气和电解腐蚀的影响，所以需要外加可靠的保护层。